Aixtron: chipbedrijf verlaagt prognose - het aandeel stijgt 19% - wat zit hier achter
Aixtron $AIXA, actief in chips, heeft zijn prognose voor 2024 verlaagd vanwege marktontwikkelingen en wisselkoersen, en rapporteerde lagere omzet en winst voor het tweede kwartaal. Maar het aandeel het aandeel staat op de Duitse beurs 19% hoger.
Het Duitse bedrijf, dat depositiesystemen voor de halfgeleiderindustrie produceert, verwacht nu een omzet tussen EUR620 miljoen en EUR660 miljoen, lager dan de eerdere verwachting van EUR630 miljoen tot EUR720 miljoen. De EBIT-marge wordt verlaagd naar 22%-25% van 24%-26%.
Aixtron rapporteerde een omzet van EUR132 miljoen voor het tweede kwartaal, lager dan EUR173,5 miljoen vorig jaar. De EBIT daalde naar EUR13 miljoen van EUR44,6 miljoen, met een marge van 10%, onder de jaarprognose.
De reden van de rally
Het bedrijf meldde een orderontvangst van EUR176 miljoen voor het kwartaal en verwacht vergelijkbare sterke orders in de komende kwartalen. Deze sterke orderontvangst toont aan dat de vraag naar hun producten onverminderd groot blijft, wat positief is voor de toekomstige omzet.
De toekomst is dus uitermate sterk, ondanks een winstwaarschuwing voor nu. Dit kan er ook op wijzen dat andere bedrijven met soortgelijke technieken een sterk 2025 gaan zien.
Voor de chipindustrie betekent dit dat ondanks tijdelijke marktschommelingen de lange termijn vraag naar chips en gerelateerde technologieën sterk blijft.
Aixtron's sterke orderboek suggereert dat de groei in de chipindustrie doorzet, aangedreven door toenemende toepassingen in diverse sectoren zoals elektronica en telecommunicatie.
Ondanks de voorzichtige houding op de korte termijn, mag de vooruitgang van het bedrijf als bullish worden gezien voor chips vanwege de sterke lange termijn vooruitzichten. De halfjaarresultaten worden op 25 juli gepubliceerd.
Wat is depositieapparatuur
Depositieapparatuur voor de halfgeleiderindustrie is gespecialiseerde apparatuur die wordt gebruikt om dunne lagen materiaal op een substraat (meestal een silicium wafer) aan te brengen. Deze dunne lagen vormen de basis voor halfgeleiderapparaten zoals microchips en LEDs. Er zijn verschillende technieken voor depositie, waaronder:
Chemische dampafzetting (CVD): Hierbij worden gasvormige precursoren gebruikt die reageren of ontleden op het oppervlak van het substraat, waardoor een dunne laag wordt gevormd.
Fysische dampafzetting (PVD): Hierbij wordt materiaal fysiek van een bron verdampt en vervolgens op het substraat neergeslagen. Veelgebruikte methoden zijn sputteren en evaporatie.
Moleculaire straal epitaxie (MBE): Hierbij worden atomen of moleculen van een bron door een vacuümkamer naar het substraat gestuurd, waar ze zich ordenen in een dunne, epitaxiale laag.
Atomische laagdepositie (ALD): Dit is een proces waarbij dunne lagen worden opgebouwd door het afwisselend blootstellen van het substraat aan verschillende gasvormige precursoren, die chemisch reageren op het oppervlak.
Deze technologieën zijn cruciaal voor de productie van halfgeleiderapparaten, omdat ze nauwkeurige controle bieden over de dikte, samenstelling en eigenschappen van de lagen die worden afgezet.
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
