China: vooruitgang ontwikkeling 28nm lithografiemachines - ASML
Het Chinese Huawie en Shanghai Microelectronics maken aanzienlijke vooruitgang in de ontwikkeling van 28nm-immersie lithografiemachines. We willen meteen aangeven dat de Chinezen nog steeds ver achterlopen ten opzichte van $ASML en anderen die hun eigen specialisatie hebben.
De Chinese bedrijven verwachten tegen eind 2023 de eerste in China geproduceerde SSA/800-10W lithografiemachine op de markt te brengen.
Lithografiemachines zijn onderverdeeld in drie categorieën: front-end lithografiemachines, back-end lithografiemachines en panel lithografiemachines.
Visie op China en ASML
De vooruitgang in China gaat steeds sneller, mede door alle investeringen die worden gedaan. Toch zal het nog wel even duren voordat ze ASML $ASML hebben ingehaald, net als Nikon en Canon, die al lange tijd tot de top behoren in hun vakgebied.
De ontwikkelingen in China vormen voor ASML waarschijnlijk nog geen bedreiging. Ook in de toekomst is dat maar de vraag, omdat de huidige "technologieoorlog" ertoe leidt dat er waarschijnlijk alleen wordt samengewerkt in het westen met leveranciers zoals ASML.
De huidige dip van ASML heeft weinig te maken met dit bericht uit China. De dip wordt veroorzaakt door de stemming op de markt. Misschien daalt ASML nog verder op de korte termijn, iets dat we nog steeds niet geheel uitsluiten. Het is zelfs mogelijk dat de berichtgeving uit China over de ontwikkeling van 28nm-immersie lithografiemachines wordt aangegrepen als excuus om koersen van aandelen zoals ASML lager neer te zetten.
Maar zolang ASML ver vooruit loopt is er weinig aan de hand. Op de hele lange termijn wordt wel verwacht dat China haar achterstand zal inhalen, maar dat is voorlopig nog zo ver weg dat dit geen hinder hoeft te zijn voor ASML om verder te groeien.
Vooral na het huidige overgangsjaar wordt een versnelling in de groei bij ASML in 2024 en daarna voorzien, zo verwachten wij.
Enige achtergrond
Front-end lithografiemachines worden voornamelijk gebruikt voor het maken van wafers en zijn verdeeld in DUV en EUV. Momenteel heeft ASML een dominante positie, terwijl Japanse bedrijven Nikon en Canon ook belangrijke spelers zijn.
Hoewel China nog achterloopt in de meest geavanceerde EUV-technologie voor lithografiemachines, heeft Shanghai Microelectronics al enkele geavanceerde en stabiele producten in het middel-hoge segment van lithografiemachines.
In het kort, de 22nm technologie biedt snellere chips, is minder duur om te ontwikkelen en levert betere prestaties dan 28 (waar China nu bezig is). Het biedt ook een relatief gemakkelijke upgrade pad voor chipfabrikanten met ontwerpen op 65nm, 55nm en 40nm.
Echter, het kan enkele uitdagingen ondervinden vanwege de beperkte speelruimte voor gate dielectric dikte en CD-variatie. De 28nm kan worden overgeslagen door fabrikanten ten gunste van andere nodes die meer prestaties bieden of kosteneffectiever zijn.
De overgang van 28nm naar 22nm is echter een redelijke stap die de mogelijkheid biedt om meer chips uit fabrieken te halen en daardoor de winstgevendheid voor chipontwerpers te vergroten.
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
