ASML: China werkt aan concurrent gebaseerd op LDP techniek - Uitleg en meer
De recente ontwikkelingen rondom extreme ultraviolet (EUV) lithografie komen uit China, waar intensief wordt gewerkt aan alternatieven voor ASML’s technologie. Dit is nu nog geen bedreiging voor ASML, maar het mag zeker niet worden genegeerd.
China’s focus op laser-induced discharge plasma (LDP) EUV kan een directe reactie zijn op de opgelegde sancties die de toegang tot geavanceerde EUV-systemen beperken.
Hierdoor heeft China zijn onderzoek en ontwikkeling versneld in de zoektocht naar een eigen oplossing. De vraag blijft echter of deze technologie werkelijk doorbreekt en ASML’s dominantie kan uitdagen.
De technische kloof tussen LDP en LPP
LDP en LPP zijn beide methoden om 13,5 nm EUV-licht te genereren, essentieel voor de fijnste chipproductie van vandaag. LPP, de methode die ASML gebruikt, werkt door een hoogenergetische laserpuls op een kleine tin-druppel te richten, waardoor deze verdampt en ioniseert tot een plasma dat EUV-licht uitstraalt.
Dit proces vereist krachtige lasers, complexe optische systemen en geavanceerde FPGA-gestuurde besturingselektronica om de druppels met precisie te raken.
LDP werkt op een fundamenteel andere manier. In plaats van een laser wordt een kleine hoeveelheid tin verdampt tot een gasvormige wolk tussen twee elektroden. Vervolgens wordt een hoge spanning toegepast, waardoor het gasvormige tin wordt omgezet in plasma. Elektronen botsen met tinionen, wat resulteert in de emissie van EUV-licht.
Dit proces mocht het werkelijk lukken is dan aanzienlijk eenvoudiger en belooft een kleinere, kosteneffectieve en energiezuinigere oplossing.
De voordelen van LDP
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
