ASML: grote stap schaalbaarheid EUV-technologie - extra update
Dit is een extra aanvulling op de eerdere berichtgeving met betrekking tot de analistendag van ASML. (Zie ook de database.)
Eén van de belangrijkste punten van de beleggersdag van ASML $ASML op donderdag was de mededeling van de schaalbaarheid van hun EUV-platform.
ASML heeft een zeer flexibel platform ontwikkeld waarmee hardwaremodules, zoals de bron en de belichter, opnieuw kunnen worden gebruikt in zowel high-NA als toekomstige hyper-NA-systemen.
Dit verlaagt de kosten en verhoogt de productiviteit, gemeten in het aantal wafers dat per uur wordt belicht. Deze aanpak geldt voor alle 3 de technologieën: low-NA, high-NA en hyper-NA.
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
