NVIDIA: halveert tijd voor Optical Proximity Correction
NVIDIA $NVDA beweert dat ze de tijd voor Optical Proximity Correction (OPC) met de helft kunnen verkorten dankzij een nieuwe technologie.
Deze technologie maakt het mogelijk om een bijna perfecte inverse mask-oplossing te creëren, die rekening houdt met de lichtdiffractie die optreedt bij computationele lithografie. Vervolgens wordt het definitieve masker afgeleid via traditionele en fysisch nauwkeurige methoden. Dit versnelt het hele OPC-proces met een factor twee.
Uitleg
Optical Proximity Correction (OPC) is een cruciaal proces in chipproductie waarbij de effecten van lichtverstrooiing op de patronen van een chipmasker worden gecorrigeerd.
NVIDIA's methode stelt fabrikanten in staat om sneller en nauwkeuriger maskers te maken, wat de productietijd van halfgeleiders aanzienlijk kan verkorten. Door een efficiëntere aanpak worden fouten in de chipontwerpen verminderd, wat leidt tot hogere productiviteit en nauwkeurigheid in de productie van geavanceerde chips.
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
